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用于光刻机的浸没自适应密封控制装置

完成时间:2011-04-13

标的金额:面议

性质:发明专利

发布日期 2019-03-29 行业类别 其他
成熟度 其他 合作方式

详细介绍

本发明公开了一种用于光刻机的浸没自适应密封控制装置。浸没自适应密封控制装置是在投影透镜组和衬底之间设置的装置,由密封构件和自适应密封件组成。当液体由于衬底牵拉形成对自适应密封件冲击时,该结构能够吸收高速运动液体形成的冲击,并将其转化为增强密封的动力;反之,当衬底牵拉液体远离自适应密封件之时,该结构内部预存的液体将跟随进入缝隙流场,避免由于边界液体的缺失引起的气泡卷吸,同时,内部预存液体的减少将降低自适应密封件的密封动力,泄漏的液体由于受到阻碍的减少而跟随衬底回流到缝隙流场内部。浸没自适应密封控制装置的液体输送方式采用负压回收、注液端自由流动,避免了注液与回收压力不协调导致的流场波动。  

基本信息

单位名称:
联系人: 孙老师
通讯地址:
联系电话: 0571-87951111 E - mail:
传真: 网  址:
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